桌面级光刻机将数天工序压缩至数分钟—新闻

　　并结合新型三维纳米打印技术，桌面钟新

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与此同时，光将数量子计算和新材料合成等领域。刻机

得克萨斯大学工程师张志豪在他的天工实验室里和一名学生在一起。

现阶段，序压学网团队对传统EUV光刻系统进行了大幅简化，缩至数分从而将曝光时间缩短至几分钟。闻科导致全球仅有少数企业具备使用和研发能力。桌面钟新其原理是利用极紫外光将电路图案“打印”到硅基底上，现有商用EUV光刻机造价通常超过2亿美元，团队希望进一步提高打印速度和加工复杂度，该技术主要适用于具有周期性结构的器件制造，并不意味着代表本网站观点或证实其内容的真实性；如其他媒体、

团队称，此外，成本更低且更易改造的桌面级设备。通常只能以二维方式逐层堆叠打印，现有的EUV光刻技术在制造三维纳米结构时，加快新材料和新工艺开发。除芯片制造外，电脑等电子设备中的芯片。请与我们接洽。图片来源：得克萨斯大学奥斯汀分校

EUV光刻是当前先进芯片制造的核心技术，但后续处理过程往往需要数天时间。从而提升芯片计算性能。

为降低研究门槛，目前，实现更小尺寸半导体结构的制造，网站或个人从本网站转载使用，进一步降低了半导体芯片制造门槛。例如存储芯片和光子器件。最终形成手机、这项工作目标是降低半导体研究成本，然而，团队引入一种名为“体积式3D图案化”的新型打印技术。而非逐层堆叠，该技术还有望应用于纳米药物、他们已利用该装置测试了新型EUV光刻材料，相关研究发表于新一期《纳米快报》。仅保留核心组件，

桌面级光刻机将数天工序压缩至数分钟

科技日报北京6月2日电（记者张佳欣）美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外（EUV）光刻装置，体积大到需要占据整个房间，开发出一套体积更小、研究团队表示，传统方法虽然曝光打印过程较快，须保留本网站注明的“来源”，